Den 4. juni annoncerede Belgian Microelectronics Research Center (IMEC) og ASML ifølge medierapporter etableringen af et fælles High NA EUV Lithography Laboratory i Veldhoven, Holland.
Efter mange års omhyggelig konstruktion og integration er dette laboratorium nu fuldt forberedt og vil give banebrydende teknisk support til førende globale logik- og lagerchipproducenter samt leverandører af avancerede materialer og udstyr.
Kerneudstyret i laboratoriet er en prototype EUV-scanner med høj numerisk blænde (TWINSCAN EXE: 5000) sammen med tilhørende proces- og måleværktøjer, som i fællesskab vil bidrage til gennembrud i fremtidig chipfremstilling.
Åbningen af dette fælles laboratorium ses som en vigtig milepæl i forberedelsesprocessen til masseproduktion med høj NA EUV-teknologi. Industrien forventer, at den med den fortsatte modenhed og popularisering af denne teknologi vil indlede storskala masseproduktionsapplikationer mellem 2025 og 2026.
Det er værd at nævne, at Asma tidligere offentligt har fremvist den seneste generation af High NA EUV litografimaskiner. Denne litografimaskine har et enormt volumen, svarende til en dobbeltdækkerbus, og vejer op til 150 tons.
På grund af dets enorme størrelse og komplekse monteringsproces skal udstyret underpakkes i 250 separate flade nudler til transport, hvilket viser dets ekstraordinære udfordringer i fremstillings- og transportprocessen.
På trods af de høje produktionsomkostninger for High NA EUV litografimaskinen, som angiveligt er prissat til 350 millioner euro (ca. 2,7 milliarder yuan), er dens værdi inden for halvlederfremstilling umålelig. Det bliver et essentielt våben for verdens tre store waferproducenter at opnå storskalaproduktion af avancerede processer under 2nm.